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簡要描述:LSX-213nm激光剝蝕 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)使用的高性能硬件及高精度光學(xué)部件,帶來效果優(yōu)異的光學(xué)分辨率,達到清晰觀察效果的同時并具有寬泛的視野,配備高質(zhì)量、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng),確保在極大放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。
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激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線源于全球行業(yè)之一的Photon Machines團隊(縮寫PMI),其第一代產(chǎn)品于1995年問世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設(shè)計、研發(fā)、制造及應(yīng)用經(jīng)驗,產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統(tǒng)(與ICP-MS聯(lián)用),及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)(與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用),此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統(tǒng)的功能,足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術(shù)。
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)內(nèi)置性能良好密閉的泵浦燈和MIL-SPEC標準設(shè)計制造的激光源,給操作者帶來非常穩(wěn)定的激光能量和低維護成本,配備了高精度獨立減震光學(xué)平臺后,系統(tǒng)能夠在多種苛刻環(huán)境中進行多種樣品分析。
LSX-213 G2+ 使用的高性能硬件及高精度光學(xué)部件,帶來效果優(yōu)異的光學(xué)分辨率,達到清晰觀察效果的同時并具有寬泛的視野,配備高質(zhì)量、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng),確保在極大放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。
LSX-213 G2+ 采用開放式樣品池位置設(shè)計,能夠兼容多種樣品池,并支持用戶定制樣品池。軟件方面可以控制內(nèi)置光圈自動切換,剝蝕斑點直徑范圍4-200μm,系統(tǒng)通過與ICP通訊實時調(diào)整能量、斑點大小和掃描速度等參數(shù)。 簡潔實用的結(jié)構(gòu)設(shè)計,不僅提供了穩(wěn)定的性能,同時具有良好的易維護性,為您提供便利高效的工作過程,實現(xiàn)定點——剝蝕——分析的三步目標。
213nm激光剝蝕,固態(tài)激光剝蝕
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
五倍頻213nm Q-switched控制的Nd:YAG固態(tài)激光源,脈沖能量≥6mJ,脈沖寬度≤4ns
脈沖穩(wěn)定性<3%
平頂激光技術(shù),達到良好的剝蝕坑
激光光路和觀察光路獨立設(shè)計,防止機械震動干擾和熱源干擾,具有非常高的穩(wěn)定性
脈沖頻率1-20Hz可調(diào),輸出能量1-100%可調(diào)
剝蝕斑點范圍4-200μm
密閉且易維護的激光源設(shè)計
計算機控制,連續(xù)調(diào)節(jié)的等焦面共焦點設(shè)計,顯微光學(xué)放大倍數(shù)15-60x
觀察視野>6mm(光學(xué)分辨率<2μm)
高強度LED陣列照明系統(tǒng)
電動旋轉(zhuǎn)偏振系統(tǒng)
開放式樣品池位置設(shè)計,靈活性高
多種樣品池可選,兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
XY平臺步進分辨率0.16μm
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域:
環(huán)境樣品分析,物證樣品分析,農(nóng)產(chǎn)品樣品分析,同位素定性分析,生物樣品分析,大體積進樣定量分析,地質(zhì)樣品分析,樣品缺陷分析,元素分布圖繪制分析,透明和半透明樣品分析,深度剝蝕分析。
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